Procesa speciālā gāze, ko izmanto TFT-LCD ražošanas procesā CVD pārklāšanas procesā: silāns (S1H4), amonjaks (NH3), fosfors (pH3), smiekli (N2O), NF3 u.c., kā arī papildus procesa procesam Augsta tīrība ūdeņradis un augstas tīrības pakāpes slāpeklis un citas lielas gāzes.Izsmidzināšanas procesā tiek izmantota argona gāze, un izsmidzināšanas plēves gāze ir galvenais izsmidzināšanas materiāls.Pirmkārt, plēvi veidojošo gāzi nevar ķīmiski reaģēt ar mērķi, un vispiemērotākā gāze ir inerta gāze.Kodināšanas procesā tiks izmantots arī liels daudzums speciālās gāzes, un elektroniskā speciālā gāze pārsvarā ir uzliesmojoša un sprādzienbīstama un ļoti toksiska gāze, tāpēc prasības gāzes ceļam ir augstas.Wofly Technology specializējas īpaši augstas tīrības pakāpes transporta sistēmu projektēšanā un uzstādīšanā.
Speciālās gāzes galvenokārt izmanto LCD rūpniecībā plēvju veidošanas un žāvēšanas procesos.Šķidro kristālu displejam ir daudz dažādu klasifikāciju, kur TFT-LCD ir ātrs, attēla kvalitāte ir augsta un izmaksas tiek pakāpeniski samazinātas, un pašlaik tiek izmantota visplašāk izmantotā LCD tehnoloģija.TFT-LCD paneļa ražošanas procesu var iedalīt trīs galvenajās fāzēs: priekšējais bloks, vidēji orientēts boksēšanas process (CELL) un pēcposma moduļa montāžas process.Elektronisko speciālo gāzi galvenokārt izmanto iepriekšējā masīva procesa plēves veidošanas un žāvēšanas stadijā, un attiecīgi tiek nogulsnēta SiNX nemetāla plēve un vārti, avots, kanalizācija un ITO, kā arī metāla plēve, piemēram, vārti, avots,drainandITO.
Izlikšanas laiks: 13. janvāris 2022. gada laikā