Īpaši augstas tīrības gāzes ir būtiskas visā pusvadītāju piegādes ķēdē. Faktiski par tipisku FAB augstas tīrības pakāpes ir lielākie materiālu izdevumi pēc paša silīcija. Pēc globālā mikroshēmu trūkuma nozare paplašinās ātrāk nekā jebkad agrāk - un palielinās pieprasījums pēc augstas tīrības gāzes.
Visbiežāk izmantotās beramās gāzes pusvadītāju ražošanā ir slāpeklis, hēlijs, ūdeņradis un argons.
Nitrogēns
Slāpeklis veido 78% no mūsu atmosfēras un ir ārkārtīgi bagātīgs. Tas notiek arī ķīmiski inerts un nevadošs. Tā rezultātā slāpeklis ir atradis ceļu uz vairākām nozarēm kā rentabla inerta gāze.
Pusvadītāju nozare ir galvenais slāpekļa patērētājs. Paredzams, ka moderna pusvadītāju ražošanas rūpnīca stundā izmantos līdz 50 000 kubikmetru slāpekļa. Pusvadītāju ražošanā slāpeklis darbojas kā vispārējs, neveicot un attīra gāzi, aizsargājot jutīgas silīcija vafeles no reaktīva skābekļa un mitruma gaisā.
Hēlijs
Hēlijs ir inerta gāze. Tas nozīmē, ka hēlijs, tāpat kā slāpeklis, ir ķīmiski inerts, bet tam ir arī papildu augstas siltumvadītspējas priekšrocība. Tas ir īpaši noderīgi pusvadītāju ražošanā, ļaujot tai efektīvi veikt siltumu no augstas enerģijas procesiem un palīdzēt tos pasargāt no termiskajiem bojājumiem un nevēlamām ķīmiskām reakcijām.
Ūdeņradis
Ūdeņradi plaši izmanto visā elektronikas ražošanas procesā, un pusvadītāju ražošana nav izņēmums. Jo īpaši tiek izmantots ūdeņradis:
ATKĀRTOŠANA: Silīcija vafeles parasti tiek uzkarsētas līdz augstai temperatūrai un lēnām atdzesē, lai labotu (atkvēlinātu) kristāla struktūru. Ūdeņradi izmanto, lai vienmērīgi pārnestu uz vafeļu un palīdzētu atjaunot kristāla struktūru.
Epitaksija: īpaši augstas tīrības ūdeņradis tiek izmantots kā reducējošs līdzeklis pusvadītāju, piemēram, silīcija un germānijas, epitaksiālajā nogulsnēšanā.
Nosēdums: Ūdeņradi var iedziļināties silīcija plēvēs, lai to atomu struktūru padarītu nesakārtotāku, palīdzot palielināt pretestību.
Plazmas tīrīšana: Ūdeņraža plazma ir īpaši efektīva, lai noņemtu alvas piesārņojumu no gaismas avotiem, ko izmanto UV litogrāfijā.
Argons
Argons ir vēl viena cēls gāze, tāpēc tam ir tāda pati zema reaktivitāte kā slāpeklis un hēlijs. Tomēr argona zemā jonizācijas enerģija padara to noderīgu pusvadītāju lietojumos. Tā kā jonizācijas relatīvā ērtība, argonu parasti izmanto kā primāro plazmas gāzi kodināšanai un nogulsnēšanās reakcijām pusvadītāju ražošanā. Papildus tam argons tiek izmantots arī eksimēru lāzeros UV litogrāfijai.
Kāpēc tīrībai ir nozīme
Parasti pusvadītāju tehnoloģijas sasniegumi ir sasniegti, mērogojot lielumu, un pusvadītāju tehnoloģijas jaunajai paaudzei ir raksturīgi mazāki funkciju izmēri. Tas dod vairākas priekšrocības: vairāk tranzistoru noteiktā apjomā, uzlabotās strāvas, zemāks enerģijas patēriņš un ātrāka pārslēgšana.
Tomēr, samazinoties kritiskajam lielumam, pusvadītāju ierīces kļūst arvien sarežģītākas. Pasaulē, kurā ir svarīgi individuālu atomu stāvokļi, vainas tolerances sliekšņi ir ļoti saspringti. Tā rezultātā mūsdienu pusvadītāju procesiem ir vajadzīgas procesa gāzes ar visaugstāko iespējamo tīrību.
Wofly ir augsto tehnoloģiju uzņēmums, kas specializējas gāzes pielietošanas sistēmas inženierijā: elektroniskā īpašā gāzes sistēma, laboratorijas gāzes ķēdes sistēma, rūpnieciskā centralizētā gāzes piegādes sistēma, lielapjoma gāzes (šķidruma) sistēma, augstas tīrības gāzes un īpaša procesa gāzes sekundārā cauruļvadu sistēma, ķīmiskās piegādes sistēmas, tīra ūdens sistēma, lai nodrošinātu pilnu inženiertehnisko un tehnisko pakalpojumu komplektu un senču izstrādājumus no tehniskās konsultēšanas, vispārējās plānošanas, sistēmas, kas ir paredzēta, izmantojot aprīkojumu, kas ir ietremizēts, kas ir sagatavots, kas ir instalēts. Projekta vietne, vispārējā sistēmas pārbaude, apkope un citi atbalsta produkti integrētā veidā.
Pasta laiks: jūlijs-11-2023